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| 專利名稱(中) | 改質奈米點、其製造方法和其組成元件 |
| 專利家族 |
中華民國：I518028 |
| 專利權人 | 國立清華大學 100% |
| 發明人 | 王唯本,周卓煇,徐茂峰,陳正忠 |
| 技術領域 | 材料化工 |
 專利摘要(中) |
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| 本發明係揭露一種改質奈米點，其表面係具有官能基，及其核心部分係為一聚合金屬氧化物、聚合類金屬氧化物或聚合金屬合金氧化物，且平均粒徑係為1-100nm，更進一步僅為1-10nm。另外更揭露一種改質奈米點的製造方法，以及利用改質奈米點之載子通量的改變，應用於有機半導體產業、光電產業和太陽能電池產業的元件製備。 |
| 專利摘要(英) |
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| 自行申請補件 |
 聯絡資訊 |
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|---|---|
| 承辦人姓名 | 蔡昀臻 |
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