專利授權區 | |
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專利名稱(中) | 多層膜結構 |
專利名稱(英) | Multi-film structure |
專利家族 |
中華民國:I607880 大陸:3618306 美國:10,247,864 |
專利權人 | 國立清華大學 100% |
發明人 | 葉均蔚 |
技術領域 | 材料化工,機械結構 |
專利摘要(中) |
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本发明公开种多层膜结构,由高熵材料膜层与非高熵材料膜层交互堆栈而成;该多层膜结构至少包含两层高熵材料膜层,且该多层膜结构的总纳米压痕硬度至少为10GPa。由于现有多层镀膜系统所包含的膜层都属于非高熵材料,导致多层镀膜系统的材料组成设计上受到限制;有鉴于此,本发明特别将至少两个高熵材料膜层与其它非高熵材料膜层相互堆栈,或者至少两个高熵材料膜层相互堆栈,借此方式形成可被镀于工件基材表面的种多层膜结构。由于此多层膜结构具有能够阻碍裂缝扩张与应变变形的层间界面,因此能够提升工件基材表面的硬度与韧性。另外,利用膜层间光学的干涉,此多层膜结构可以产生不同的色彩,借以改善或改变工件基材表面的外观颜色。 |
聯絡資訊 | |
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承辦人姓名 | 蔡昀臻 |