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專利名稱(英) INSPECTION METHOD FOR MULTILAYER SEMICONDUCTOR DEVICE
專利家族 中華民國:I777576
美國:11,313,670
專利權人 國立清華大學 100%
發明人 衛子健,徐米克,黎德英
技術領域 光電光學
專利摘要(英)
An inspection method for a multilayer semiconductor device is provided. The inspection method can investigate multilayered ensembles of a multilayer semiconductor device and obtain stratigraphic thickness (ST) maps of each layer in the multilayer semiconductor device by utilizing absorption edges of materials of interests and obtaining calibration quality curves.
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承辦人姓名 李佳玲
承辦人電話 03-5715131 #62300
承辦人Email cl.lee@mx.nthu.edu.tw
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