搜尋專利授權區
關鍵字
選單
專利授權區


專利授權區
專利名稱(中) 利用奈米壓印技術在聚合物壓電性材料上形成高深寬比的奈米柱的方法
專利名稱(英) A method for nanoimprinting a piezoelectric polymeric material to form high aspect ratio nanopillars
專利家族 中華民國:I466819
美國:8,632,717
專利權人 國立清華大學 100%
發明人 黃聖淵,洪健中
技術領域 材料化工,能源科技,機械結構
專利摘要(中)
本發明主要提供一種利用奈米壓印技術在聚合物壓電性材料上形成高深寬比的奈米柱的方法,包含:將一聚合物壓電性材料的表面加熱至一壓印溫度,該壓印溫度大於(Tc-25)℃且小於Tc,其中,Tc為該聚合物壓電性材料的居禮溫度;及使用一具有奈米柱結構的模板對該聚合物壓電性材料的表面進行奈米壓印以在該聚合物壓電性材料的表面上產生高深寬比的奈米柱結構。本發明也提供一種由此方法所製作的聚合物壓電性材料。
聯絡資訊
承辦人姓名 李佳玲
我有興趣 BACK