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專利名稱(中) 複合量子點及其製作方法
專利名稱(英) Composite quantum dot, method for preparation the same and a detection method for metal ions
專利家族 中華民國:I744884
大陸:CN113583671A(公開號)
美國:US2021/0340440A1(公開號)
專利權人 國立清華大學 100.00%
發明人 陳學仕,陳品如
技術領域 材料化工
專利摘要(中)
本發明提供一種具有水誘導表面修復特性的複合量子點及其製作方法,該具有水誘導表面修復特性的複合量子點包含一量子點、一保護單元, 及一修復單元。該量子點包括由M1 A 1 構成的第一層,該保護單元吸附於該量子點,包括胺基化合物,及/ 或季銨鹽及該季銨鹽的共離子, 該修復單元吸附該量子點,並包括金屬離子。此外,本發明還提供一種經水修復後的複合量子點,及其製作方法,以及利用具有水誘導表面修復特性的複合量子點進行金屬離子檢測的方法。
專利摘要(英)
This invention provides a water-induced surface repair composite quantum dotand a method for preparation the same. Said water-induced surface repair composite quantum dot comprises a quantum dot, a protection unit, and a repairunit. The quantum dot includes a first layer composed of M1A1, the protection unitis adsorbed on the quantum dot, including an amine compound, and / or an ammonium salt, the repair unit adsorbs the quantum dot and includes metal ions. In addition, the invention also provides a method for manufacturing composite quantum dots after water repair, and a method for metal ion detection by using composite quantum dots with water-induced surface repair composite quantum dot.
聯絡資訊
承辦人姓名 楊美茹
承辦人電話 03-5715131 #62305
承辦人Email mjyang2@mx.nthu.edu.tw
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