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| 專利名稱(中) | 複合量子點、其製作方法，及金屬離子檢測方法 |
| 專利家族 |
中華民國：I744884 大陸：CN113583671A(公開號) 美國：US2021/0340440A1(公開號) |
| 專利權人 | 國立清華大學 100% |
| 發明人 | 陳學仕,陳品如 |
| 技術領域 | 材料化工 |
 專利摘要(中) |
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| 本發明涉及複合量子點、其製作方法，及金屬離子檢測方法。一種具有水誘導表面修復特性的複合量子點及其製作方法，該具有水誘導表面修復特性的複合量子點包含量子點、保護單元，及修復單元。該量子點包括由M1A1構成的第一層，該保護單元吸附於該量子點，包括氨基化合物，及/或季銨鹽及該季銨鹽的抗衡離子，該修復單元吸附該量子點，並包括金屬離子。此外，本發明還提供一種經水修復後的複合量子點及其製作方法以及利用具有水誘導表面修復特性的複合量子點進行金屬離子檢測的方法。 |
 聯絡資訊 |
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| 承辦人姓名 | 楊美茹 |
| 承辦人電話 | 03-5715131 #62305 |
| 承辦人Email | mjyang2@mx.nthu.edu.tw |
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