專利授權區 | |
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專利名稱(中) | 在氧化氣氛下沉積銅金屬薄膜的方法及銅金屬前驅物 |
專利家族 |
中華民國:I256078 |
專利權人 | 國立清華大學 100% |
發明人 | 裘元杰,艾迪,季昀 |
技術領域 | 材料化工 |
專利摘要(中) |
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本發明揭示一種以化學氣相沈積(CVD)於一基材上沈積出銅金屬薄膜的方法,包含在一基材的存在下及一含有氧氣的氣氛下使銅-配位基錯合物的蒸氣被分解。 |
專利摘要(英) |
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自行申請補件 |
聯絡資訊 | |
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承辦人姓名 | 周家鳳 |
承辦人電話 | 03-5715131 #34576 |
承辦人Email | cf.chou@mx.nthu.edu.tw |