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| 專利名稱(中) | 聚二甲基矽氧烷複合結構之製造方法 |
| 專利名稱(英) | Method of fabricating composite PDMS microstructure |
| 專利家族 |
中華民國：I548643 美國：9,644,257 |
| 專利權人 | 國立清華大學 100% |
| 發明人 | 林峻霆,李東原,王本城,曾繁根 |
| 技術領域 | 材料化工 |
 專利摘要(中) |
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| 本發明提供一種聚二甲基矽氧烷複合結構之製造方法，包含一定義步驟、一真空沉積步驟及一蝕刻步驟。其中定義步驟係在一聚二甲基矽氧烷基材上定義具有一硫醇官能基單分子之一圖案區域，硫醇官能基單分子呈液相。真空沉積步驟係利用一真空鍍膜法在一活化時間內沉積金原子於圖案區域之聚二甲基矽氧烷基材上。蝕刻步驟係以清水清洗聚二甲基矽氧烷基材，令金原子選擇性地留存在圖案區域上。藉此，透過金原子沉積條件之控制，可以精確控制所定義金圖案之厚度及薄膜品質，而且此方法所製造的聚二甲基矽氧烷複合結構具有高附著力與良好的穩定度。 |
 聯絡資訊 |
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| 承辦人姓名 | 楊美茹 |
| 承辦人電話 | 03-5715131 #62305 |
| 承辦人Email | mjyang2@mx.nthu.edu.tw |
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