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專利名稱(英) RADIATIVE COOLING SUBSTRATE AND MANUFACTURING METHOD OF THE SAME
專利家族 中華民國:I695910
美國:11,078,593
專利權人 國立清華大學 100.00%
發明人 韓宏笙,陳玉彬
技術領域 材料化工,能源科技,光電光學
專利摘要(中)
A radiative cooling substrate and a manufacturing method of the radiative cooling substrate are provided. The radiative cooling substrate includes a metallic substrate and a chitosan layer disposed on the metallic substrate with a thickness of 0.5 μm to 10 μm. The chitosan layer emits radiation within a waveband between 8 μm and 13 μm.
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承辦人姓名 劉千綺
承辦人電話 03-571-5131 #31181
承辦人Email chienchi@mx.nthu.edu.tw
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