| 專利名稱(中) | 平面金属氧化物半导体栅极半导体元件结构 | 
| 專利家族 | 
                            中華民國:202447956(公開號) 大陸:CN119029031A(公開號)  |             
					
| 專利權人 | 國立清華大學 100.00% | 
| 發明人 | 黃智方,胡家瑋 | 
| 技術領域 | 光電光學,電子電機 | 
| 本发明揭露一种平面金属氧化物半导体栅极半导体元件结构,具有一主动区与一非主动区,其中,该主动区包含:多个六边形主动区单元,所述多个六边形主动区单元紧密相邻排列以覆盖该主动区,并形成该主动区的平面;其中,所述多个六边形主动区单元环绕该非主动区,且该非主动区单元至少连结所述多个六边形主动区单元其中之一;以及该主动区包括金属氧化物半导体结构反转或累积形成的通道,而该非主动区则不包括通道。 | 
| 承辦人姓名 | 李曉琪 | 
| 承辦人電話 | 03-5715131 #31061 | 
| 承辦人Email | hsiaochi@mx.nthu.edu.tw |