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專利名稱(中) 黃光製程產能規劃系統及其規劃方法
專利名稱(英) PHOTOLITHOGRAPHY CAPACITY PLANNING SYSTEM AND NON-TRANSITORY COMPUTER READABLE MEDIA THEREOF
專利家族 中華民國:I529633
美國:8,863,047
專利權人 國立清華大學 100.00%
發明人 吳吉政,簡禎富
技術領域 工業工程,電子電機
專利摘要(中)
本發明係揭露一種黃光製程產能規劃系統及其規劃方法。黃光製程產能規劃系統包含一成本計算模組、一產能計算模組、一需求計算模組、以及一資料處理模組。成本計算模組計算黃光製程的生產成本、缺單成本、及光罩成本,以提供成本資訊。產能計算模組計算此黃光製程的光源產能、共用機台產能、及專用機台產能,以提供產能資訊。需求計算模組根據產能資訊及使用者提供的預估需求量,計算此黃光製程的缺單數量,以提供缺單資訊。資料處理模組連接成本計算模組、產能計算模組、及需求計算模組,係根據成本資訊、產能資訊、缺單資訊、及使用者設定的規劃目標,提供使用者決策結果。黃光製程產能規劃方法包含透過成本計算模組計算黃光製程的生產成本、缺單成本、及光罩成本,並提供成本資訊。利用產能計算模組計算黃光製程的光源產能、共用機台產能、及專用機台產能,並提供產能資訊。藉由需求計算模組根據產能資訊及使用者提供的預估需求量,計算黃光製程的缺單數量,並提供缺單資訊。以資料處理模組根據成本資訊、產能資訊、缺單資訊、及使用者設定的規劃目標,提供使用者決策結果。
聯絡資訊
承辦人姓名 李佳玲
承辦人電話 03-5715131 #62300
承辦人Email cl.lee@mx.nthu.edu.tw
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