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| 專利名稱(中) | 高熵超合金之加工方法 |
| 專利名稱(英) | High-entropy alloy formed with hierarchical-precipitation microstructure therein |
| 專利家族 |
中華民國：I729899 |
| 專利權人 | 國立清華大學 100% |
| 發明人 | 葉安洲,陳勇達 |
| 技術領域 | 材料化工 |
 專利摘要(中) |
|---|
| 本發明主要揭示一種具層次析出微結構的高熵超合金之製造方法，用以對包含一基地相與一析出強化相的一高熵超合金依序執行一第一熱處理與一第一冷處理，從而促使該析出強化相固溶於該基地相之中。進一步地，對高熵超合金依序執行一第二熱處理與一第二冷處理以促使一基地相微結構成長且析出於所述析出強化相之中，從而使該高熵超合金含有一層次析出微結構。特別地，本發明之方法不僅可應用於顯著提升任一種高熵超合金之機械性質，同時還能夠維持該高熵超合金的低成本及輕量化之優點，從而擴展了高熵超合金的應用範圍。 |
 聯絡資訊 |
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| 承辦人姓名 | 楊美茹 |
| 承辦人電話 | 03-5715131 #62305 |
| 承辦人Email | mjyang2@mx.nthu.edu.tw |
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