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| 專利名稱(中) | 適用於大面積曝光之拼接式雷射干涉微影設備 |
| 專利名稱(英) | LASER INTERFERENCE LITHOGRAPHY APPARATUS CAPABLE OF STITCHING SMALL EXPOSED AREAS INTO LARGE EXPOSED AREA |
| 專利家族 |
中華民國：I401541 美國：US 8,400,616 B2 |
| 專利權人 | 國立清華大學 100.00% |
| 發明人 | 林柏瑄,傅建中 |
| 技術領域 | 光電光學 |
 專利摘要(中) |
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| 一種適用於大面積曝光之拼接式雷射干涉微影設備包含一本體、一雷射光波供應單元、一反射機構、一L形固定機構以及一基板載台。雷射光波供應單元固定於本體上，用以提供一雷射光波。反射機構係可移動且可轉動地安裝於本體上。L形固定機構係安裝於本體上並包含一第一固定座以及一第二固定座。第一固定座上面固定有一呈直立狀態之第一反射鏡。第二固定座連接至第一固定座，用以固定一呈水平狀態之光罩，並實質上垂直於第一固定座。基板載台係可移動地安裝於本體上，並位於第二固定座的下方，用以承載一基板。藉此，可以得到拼接式的大面積圖案。 |
 聯絡資訊 |
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| 承辦人姓名 | 劉千綺 |
| 承辦人電話 | 03-571-5131 #31181 |
| 承辦人Email | chienchi@mx.nthu.edu.tw |
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