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| 專利名稱(中) | 光固化裝置使用之可調波長曝光模組 |
| 專利名稱(英) | Wavelength tunable module for photo-curing device |
| 專利家族 |
中華民國：M565120 |
| 專利權人 | 國立臺灣科技大學 40% ,國立清華大學 20% ,中國醫藥大學 40% |
| 發明人 | 王潔,許家寧,陳定閒,謝明佑,陳怡文,鄭逸琳 |
| 技術領域 | 材料化工 |
 專利摘要(中) |
|---|
| 一種光固化裝置使用之可調波長曝光模組，其包含其相互連接之一外部光源產生器與一光纖，其中：該外部光源產生器可調整地發出全波長範圍的光源並架設於一固定座，該固定座包含一結合構造；以及該光纖將光源自該外部光源產生器導出；本新型的光源波長範圍可自行調整，且提供全範圍的光波長，增加光固化成型時應用材料的選擇。 |
 聯絡資訊 |
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|---|---|
| 承辦人姓名 | 周家鳳 |
| 承辦人電話 | 03-5715131 #34576 |
| 承辦人Email | cf.chou@mx.nthu.edu.tw |
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