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| 專利名稱(中) | 含兩性離子基團及苯并噁嗪的高分子及其製造方法 |
| 專利名稱(英) | POLYMER WITH ZWITTERIONIC GROUPS AND BENZOXAZINE AND MANUFACTURING METHOD THEREOF |
| 專利家族 |
中華民國：I723367 美國：11,084,905 |
| 專利權人 | 國立清華大學 100.00% |
| 發明人 | 韓易臻,劉英麟 |
| 技術領域 | 材料化工 |
 專利摘要(中) |
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| 一種含兩性離子基團及苯并噁嗪高分子的製造方法包含以下步驟。使含苯并噁嗪的高分子及含Z官能基的前驅物進行反應，其中Z官能基包含 、 或 。 |
| 專利摘要(英) |
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| A manufacturing method for polymer with zwitterionic groups and benzoxazine includes the steps below. A polymer containing benzoxazine and a precursor containing Z functional group are reacted, wherein the Z functional group includes , or . |
 聯絡資訊 |
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| 承辦人姓名 | 李馥如 |
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